|
| 摘要: |
| 通过假定一定的等离子体温度、密度分布,数值求解了一维等离子体的连续性方程,获得了杂质氩电离态分布,其辐射功率随空间位置和时间而变化.结果显示:在杂质注入时间较短时,由于离子输运及各种损失机制,总杂质密度在空间分布尚未达到平衡,电离态离子主要分布在等离子体周边,完全电离离子所占份额很小;当时间达到0.25 s时,氩在等离子体中完全达到平衡状态,体积辐射功率趋于一个稳定的数值;辐射功率在空间的分布随时问变化较小,主要分布在等离子体周边及边界层一个狭小的辐射带内,说明氩引起的辐射主要由低电离态离子引起. |
| 关键词: 等离子体 氩 辐射特性 热核聚变 离子中 杂质注入 过程 辐射特性 时间演化 plasma nuclear thermal process argon radiation dependent evolution 辐射带 边界层 空间分布 数值 稳定 体积 |
| DOI： |
| 分类号:O532 |
| 基金项目: |
|
| Time evolution of dependent radiation of the injecting argon process in the thermal nuclear plasma |
|
CHENG Fa-yin
|
| Abstract: |
|
| Key words: |
